电子级氢氟酸

化学式:HF
分子量:20.01
规 格:EG(EL、UP)、SG(UPS、UPSS、UPSSS)
包 材:200L Drum;IBC-tank;ISO-tank;Pail,Gallon; Bottle; Sample
电子级氢氟酸是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,主要应用于集成电路和超大规模集成电路芯片的表面清洗、蚀刻,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。

详情概述


产品 电子级氢氟酸

等级

Unit

SG

EG

外观 无色液体

含量

%

**
包装 200L Drum;IBC-tank;ISO-tank;Pail,Gallon; Bottle; Sample
物性 密度[g/cm³] 1.158(49%)
 熔点 -36.1℃
 沸点 104℃
 溶解度[g/100g H20] 本品水溶性

阴离子

ppm

*

*

MITI No. 1-306

阳离子

ppb

*

*

CAS No. 7664-39-3

粒子数

pcs/ml

*

*

关键词: 电子级氢氟酸

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电子级氢氟酸

化学式:HF
分子量:20.01
规 格:EG(EL、UP)、SG(UPS、UPSS、UPSSS)
包 材:200L Drum;IBC-tank;ISO-tank;Pail,Gallon; Bottle; Sample
电子级氢氟酸是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,主要应用于集成电路和超大规模集成电路芯片的表面清洗、蚀刻,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。

缓冲蚀刻液

化学式:HF+NH4F
分子量:20.01(HF)、37.04(NH4F)
规 格:SG(UPS、UPSS、UPSSS)、EG
包 材:200L Drum;IBC-tank;ISO-tank;Pail,Gallon; Bottle; Sample
缓冲蚀刻液BHF是HF与NH4F依不同比例混合而成依客户需求蚀刻选择比进行客制化调整。HF为主要的蚀刻液,NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定氟离子的浓度,使之保持一定的蚀刻率。或可针对蚀刻表面的处理于BHF中添加适当界面活性剂协助蚀刻具较佳的蚀刻效果。

氟化铵

化学式:NH4F
分子量:37.04
规 格:SG(UPS、UPSS、UPSSS)、EG
包 材:200L Drum;IBC-tank;ISO-tank;Pail,Gallon; Bottle; Sample
氟化铵用作化学试剂、玻璃蚀刻剂、发酵工业消毒剂和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂以及硅钢板的表面处理剂;用于制造陶瓷、镁合金,锅炉给水系统和蒸气发生系统的清洗脱垢;油田砂石的酸处理,烷基化、异构化催化剂组分。可与氢氟酸配制成缓冲溶液,SG级主要用于中、大规模集成电路,EG级主要用于IC的生产。