产品展示
化学式：HF
分子量：20.01
规 格：EG(EL、UP)、SG(UPS、UPSS、UPSSS)
包 材：200L Drum；IBC-tank；ISO-tank；Pail，Gallon； Bottle； Sample
电子级氢氟酸是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一，主要应用于集成电路和超大规模集成电路芯片的表面清洗、蚀刻，还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。
化学式：HF
分子量：20.01
规 格：EG(EL、UP)、SG(UPS、UPSS、UPSSS)
包 材：200L Drum；IBC-tank；ISO-tank；Pail，Gallon； Bottle； Sample
电子级氢氟酸是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一，主要应用于集成电路和超大规模集成电路芯片的表面清洗、蚀刻，还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。
化学式：HF+NH4F
分子量：20.01(HF)、37.04(NH4F)
规 格：SG（UPS、UPSS、UPSSS）、EG
包 材：200L Drum；IBC-tank；ISO-tank；Pail，Gallon； Bottle； Sample
缓冲蚀刻液BHF是HF与NH4F依不同比例混合而成依客户需求蚀刻选择比进行客制化调整。HF为主要的蚀刻液，NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定氟离子的浓度，使之保持一定的蚀刻率。或可针对蚀刻表面的处理于BHF中添加适当界面活性剂协助蚀刻具较佳的蚀刻效果。
化学式：HF+NH4F
分子量：20.01(HF)、37.04(NH4F)
规 格：SG（UPS、UPSS、UPSSS）、EG
包 材：200L Drum；IBC-tank；ISO-tank；Pail，Gallon； Bottle； Sample
缓冲蚀刻液BHF是HF与NH4F依不同比例混合而成依客户需求蚀刻选择比进行客制化调整。HF为主要的蚀刻液，NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定氟离子的浓度，使之保持一定的蚀刻率。或可针对蚀刻表面的处理于BHF中添加适当界面活性剂协助蚀刻具较佳的蚀刻效果。
化学式：NH4F
分子量：37.04
规 格：SG（UPS、UPSS、UPSSS）、EG
包 材：200L Drum；IBC-tank；ISO-tank；Pail，Gallon； Bottle； Sample
氟化铵用作化学试剂、玻璃蚀刻剂、发酵工业消毒剂和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂以及硅钢板的表面处理剂;用于制造陶瓷、镁合金，锅炉给水系统和蒸气发生系统的清洗脱垢;油田砂石的酸处理，烷基化、异构化催化剂组分。可与氢氟酸配制成缓冲溶液，SG级主要用于中、大规模集成电路，EG级主要用于IC的生产。
分子量：37.04
规 格：SG（UPS、UPSS、UPSSS）、EG
包 材：200L Drum；IBC-tank；ISO-tank；Pail，Gallon； Bottle； Sample
氟化铵用作化学试剂、玻璃蚀刻剂、发酵工业消毒剂和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂以及硅钢板的表面处理剂;用于制造陶瓷、镁合金，锅炉给水系统和蒸气发生系统的清洗脱垢;油田砂石的酸处理，烷基化、异构化催化剂组分。可与氢氟酸配制成缓冲溶液，SG级主要用于中、大规模集成电路，EG级主要用于IC的生产。
化学式：NH4F
分子量：37.04
规 格：SG（UPS、UPSS、UPSSS）、EG
包 材：200L Drum；IBC-tank；ISO-tank；Pail，Gallon； Bottle； Sample
氟化铵用作化学试剂、玻璃蚀刻剂、发酵工业消毒剂和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂以及硅钢板的表面处理剂;用于制造陶瓷、镁合金，锅炉给水系统和蒸气发生系统的清洗脱垢;油田砂石的酸处理，烷基化、异构化催化剂组分。可与氢氟酸配制成缓冲溶液，SG级主要用于中、大规模集成电路，EG级主要用于IC的生产。
分子量：37.04
规 格：SG（UPS、UPSS、UPSSS）、EG
包 材：200L Drum；IBC-tank；ISO-tank；Pail，Gallon； Bottle； Sample
氟化铵用作化学试剂、玻璃蚀刻剂、发酵工业消毒剂和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂以及硅钢板的表面处理剂;用于制造陶瓷、镁合金，锅炉给水系统和蒸气发生系统的清洗脱垢;油田砂石的酸处理，烷基化、异构化催化剂组分。可与氢氟酸配制成缓冲溶液，SG级主要用于中、大规模集成电路，EG级主要用于IC的生产。